Пожалуйста, войдите в систему, чтобы принять участие в дискуссии (добавить собственные рецензию, или комментарий)
Цитировать эту публикацию
%0 Journal Article
%1 ELS05
%A Elsholz, F.
%A Schöll, E.
%A Scharfenorth, C.
%A Seewald, G.
%A Eichler, H. J.
%A Rosenfeld, A.
%D 2005
%J J.~Appl.~Phys.
%K imported
%P 103516
%T Roughness evolution in thin film growth of SiO$_2$ and Nb$_2$O$_5$
%V 98
@article{ELS05,
added-at = {2009-03-03T17:19:04.000+0100},
author = {Elsholz, F. and Sch{\"o}ll, E. and Scharfenorth, C. and Seewald, G. and Eichler, H. J. and Rosenfeld, A.},
biburl = {https://www.bibsonomy.org/bibtex/2d584add0a16b395dc657e1c70e9146a9/bronckobuster},
interhash = {5681a4732b23ffecb07b17e399c2f534},
intrahash = {d584add0a16b395dc657e1c70e9146a9},
journal = {J.~Appl.~Phys.},
keywords = {imported},
nota = {fe:},
pages = 103516,
timestamp = {2009-03-03T17:19:16.000+0100},
title = {Roughness evolution in thin film growth of {S}i{O}$_2$ and {N}b$_2${O}$_5$},
volume = 98,
year = 2005
}