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Extremely High-κ Hf0.2Zr0.8O2 Gate Stacks Integrated into Ge0.95Si0.05 Nanowire and Nanosheet nFETs Featuring Respective Record Ion per Footprint of 9200μA/μm and Record Ion per Stack of 360μA at VOV=VDS=0.5V.

, , , , , , , , , , und . VLSI Technology and Circuits, Seite 1-2. IEEE, (2023)

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